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熱伝導性AlN窒化アルミニウムセラミック

熱伝導性AlN窒化アルミニウムセラミック

AlNは優れた電気絶縁性と高い熱伝導性を備えており、高性能電子パッケージング材料として注目されています。UNIPRETECは、様々なアプリケーション環境向けにAlN材料をベースとした基板シリーズを提供しています。


  • 材料

    : 窒化アルミニウム
  • : グレー
  • 密度

    : 3.30 g/cm3
  • 熱伝導率

    : > 175 W/mK
  • 最高使用温度

    : 1200℃
  • 典型的な利点

    : 高い熱伝導性
  • ご要望に応じてカスタマイズできます。

▼ 素材の説明

優れた熱伝導性と高い電気絶縁性を実現するには、窒化アルミニウム基板がその優れた効果から最適な選択肢となります。窒化アルミニウムは無毒で、研磨や機械加工時に危険な蒸気を発生しないため、半導体アプリケーション業界では酸化ベリリウム(BeO)の代わりに広く使用されています。窒化アルミニウムセラミック基板は、シリコンウェーハ製品と熱膨張係数および絶縁係数がほぼ一致するため、高温や放熱の問題を抱える電子機器の用途に適しています。

▼ 特徴と特性

√ 誘電率が小さい √優れた機械的強度
√高い熱伝導性 √ 良好な滑らかさ/平坦性
√ 電気絶縁性に優れています √耐熱衝撃性に優れています
√シリコンと同等の熱膨張係数 √ 油、酸、アルカリに対する優れた耐性

アイテム ユニット ALN
メインコンテンツ - AlN > 95%
密度 g/cm3 > 3.3
- グレー
吸水性 % 0
反り - < 2‰
標準表面粗さ(Ra) えーと 0.3~0.6
曲げ強度 ムパ 440
熱伝導率(25℃) W/mK > 175
熱膨張係数(25~300℃) 10-6 mm/°C 2 - 3
熱膨張係数(300~800℃) 10-6 mm/°C 2.5~3.5
最高動作温度 °C / °F 1,200 / 2,190
絶縁強度 KV/mm 17歳以上
誘電率 1MHz 17
電気抵抗率(25℃) Ω·cm > 1014

∆ データは参考値として提供されており、正確なデータは製造方法や部品の構成によって異なります。

▼ 標準寸法と公差

長さと幅 厚さ 許容差(厚さ)
110mm x 110mm(4.3インチ x 4.3インチ) 0.25mm(0.010インチ) ±0.03mm(<1.0mm)
114mm x 114mm(4.5インチ x 4.5インチ) 0.38mm(0.015インチ) ±0.05mm(1.0mm~1.5mm)
120mm x 120mm(4.7インチ x 4.7インチ) 0.50mm(0.020インチ) ±0.07mm(>1.5mm)
127mm x 127mm (5.0インチ x 5.0インチ) 0.63mm(0.250インチ) ±0.10mm(>2.0mm)
130mm x 140mm(5.1インチ x 5.5インチ) 0.76mm(0.030インチ)
109mm x 130mm(4.3インチ x 5.1インチ) 1.00mm(0.390インチ) 許容差(長さと幅)
190mm x 140mm(7.5インチ x 5.5インチ) 2.00mm(0.790インチ) +0.25mm/-0.05mm

∆ 寸法のカスタマイズも可能です。レーザーカットサービスも提供しており、ご希望の形状や穴を加工することも可能です。

▼セラミック絶縁基板の用途

● LEDパッケージ ● パワーモジュール
● ウェーハボンディング ● 放熱基板
● チップ抵抗器用基板 ● 放熱用HIC基板/プレート
● FAXサーマルプリンタヘッド用基板 ● ...もっと見る

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