窒化ケイ素セラミック基板は、高性能・高安定性のセラミック基板材料の一種で、主にシリコンと窒素元素に少量の酸化物と希土類元素を添加して合成した窒化ケイ素粉末を焼結したものです。高硬度、高強度、低熱膨張係数、高温での低クリープ、優れた耐酸化性、高い熱腐食性能、低摩擦係数などの利点を有し、総合的な性能を備えた最高の構造用セラミック材料の一つです。
材料 : Si3N4
密度 : 2.8
色 : ブラック / ブルー / ホワイト
硬度（モース硬度） : 9
最高動作温度 : 1650
▼性能特性
| ✔ 高硬度：窒化ケイ素セラミックの硬度はHRC90度と高く、優れた耐摩耗性を示します。 |
| ✔ 耐高温性 ：融点は1900℃と高く、高温でも高い圧縮強度を維持できます。 |
| ✔ 化学的安定性 : 優れた化学的安定性を持ち、様々な化学環境において優れた性能を維持できます |
| ✔ 低熱膨張係数 ：同じ温度変化で、窒化ケイ素セラミックス内部に発生する熱応力は比較的小さく、強い熱負荷耐性を示します。 |
| ✔ 自己潤滑性 : 窒化ケイ素セラミックは自己潤滑性があり、摩擦を低減する必要がある用途に適しています。 |
▼性能特性
1. 高い熱伝導率：窒化ケイ素セラミック基板の熱伝導率は、従来のセラミック材料の数倍、さらには多くの金属材料よりも高い。この高い熱伝導率により、窒化ケイ素セラミック基板は優れた放熱性能を有し、高出力電子機器において重要な役割を果たすことができる。
2. 優れた高温安定性 ：窒化ケイ素セラミック基板は熱膨張係数が小さく、寸法安定性に優れています。同時に、窒化ケイ素セラミック基板の熱安定性も非常に優れており、高温環境での長期使用にも耐え、変形や割れが発生しにくいです。そのため、窒化ケイ素セラミック基板は、耐高温電子機器、高温化学反応器などの高温分野で広く使用されています。
3. 優れた化学的安定性 ：窒化ケイ素セラミック基板は優れた化学的安定性を備えており、ほとんどの酸、アルカリ、その他の腐食性物質の影響を受けません。さらに、窒化ケイ素セラミック基板は優れた耐酸化性も備えており、酸化環境下でも長期間使用できます。
4. 高強度・高硬度：窒化ケイ素セラミック基板の曲げ強度は600～700MPaに達し、曲げ強度は700MPa、破壊靭性は6.5MPa·m1/2です。これらの高い強度と硬度により、窒化ケイ素セラミック基板は様々な用途で優れた性能を発揮します。
5. 優れた絶縁性と耐電気破壊性 : 窒化ケイ素セラミック基板は優れた絶縁性を備えており、高周波伝送線路やその他の電子部品に適しています。
6. 優れた高周波特性：窒化ケイ素セラミック基板は誘電率と誘電損失が低く、高周波回路に適しています。
7. 滑らかな表面と均一な厚さ ：窒化ケイ素セラミック基板の表面は滑らかで均一な厚さで、基板の表面に回路を印刷するのに便利であり、プリント回路の均一な厚さを保証します。
▼応用分野
1. 機械分野：窒化ケイ素セラミックスは、機械分野でバルブ、パイプ、グレーディングホイール、セラミックカッター、ベアリングボールなどの製造に広く使用されています。 低密度、耐高温性、自己潤滑性、耐腐食性があるため、高速工作機械のスピンドル高速ベアリング、航空宇宙エンジン、風力タービンベアリング、自動車エンジンベアリングなどの機器に広く使用されています。
2. 半導体分野：窒化ケイ素セラミックは優れた熱伝導性と高い熱伝導率を有し、半導体パッケージング分野に最適な材料です。窒化ケイ素基板は集積回路において優れた性能を発揮し、高い熱伝導率、高い曲げ強度、良好な熱整合を備えており、高性能パワーモジュールに適しています。
3. バイオセラミック分野：新世代のバイオセラミック材料として、窒化ケイ素セラミックは優れた放射線画像性能、抗感染性能、生体適合性を備えており、生体センサー、脊椎、整形外科、歯科インプラントに広く使用されています。
4. 電波透過材料分野：窒化ケイ素セラミックスおよびその複合材料は、耐熱性、電波透過性、軸受け性などの優れた性能を備えており、レドームやアンテナウィンドウなどの高性能電波透過材料の製造に使用されます。
窒化ケイ素セラミックスの応用例
5. ベアリング：窒化ケイ素セラミックベアリングボールは、低密度、耐摩耗性、耐高温性、耐腐食性、自己潤滑性などの特性を備えており、高速工作機械スピンドルの高速ベアリング、航空宇宙エンジンベアリングなどの高速回転体に特に適しています。
6. 基板：半導体分野では、窒化シリコン基板は、その高い熱伝導率、高い曲げ強度、優れた熱整合により、高性能パワーモジュールのパッケージングに広く使用されています。
7. インプラント：窒化ケイ素セラミックは、生体適合性と抗感染性に優れており、バイオメディカル分野で脊椎椎間固定装置、整形外科用インプラント、歯科用インプラントなどの製造に使用されています。
透明材料: シリコン窒化物セラミックとその複合材料は、優れた透明性能と耐高温性を備えたレドームとアンテナ ウィンドウの製造に使用されます。
▼Si3N4窒化ケイ素セラミックの技術的特性
窒化ケイ素セラミックボール は、非酸化雰囲気下で高温焼結された精密セラミックスの一種で、高強度、高耐摩耗性、耐高温性、耐腐食性、耐酸性、耐アルカリ性などの優れた特性を備えています。密度は3.20g/cm³で、軸受鋼の約1/3の軽さです。回転時の遠心力が小さく、高速運転に適しています。さらに、窒化ケイ素セラミックボールは自己潤滑性も備えているため、潤滑油を必要としない媒体や汚染度の高い環境にも適しています。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミック基板は、高性能・高安定性のセラミック基板材料の一種で、主にシリコンと窒素元素に少量の酸化物と希土類元素を添加して合成した窒化ケイ素粉末を焼結したものです。高硬度、高強度、低熱膨張係数、高温での低クリープ、優れた耐酸化性、高い熱腐食性能、低摩擦係数などの利点を有し、総合的な性能を備えた最高の構造用セラミック材料の一つです。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックボルトは、優れた耐高温性、耐腐食性、機械的特性を有する窒化ケイ素（Si3N4）材料で作られたボルトです。窒化ケイ素セラミックボルトは高温でも優れた性能を発揮し、1200℃でも高い強度を維持し、1900℃で初めて破壊されます。さらに、耐薬品性も優れており、ほぼすべての無機酸（フッ化水素酸を除く）と30%未満の苛性ソーダ溶液に耐えることができます。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックロッドは、高温環境での性能が優れており、耐熱衝撃性に優れ、高温でも高い強度と耐衝撃性を維持できます。分解温度は空気中で1800℃、窒素中では1850℃までで、1000℃の冷水中で加熱しても破損しません。窒化ケイ素セラミックは熱伝導率が高く、熱膨張係数が低いため、高温での耐熱衝撃性に優れています。材料 : 窒化ケイ素密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度(モース硬度) : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックチューブは、1400℃までの高温でも安定した機械的特性を維持できます。従来のセラミックと比較して、窒化ケイ素セラミックはより高い強度と靭性を示し、より大きな衝撃や負荷に耐えることができます。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイトHRDNESS(モーススケール) : 9最高使用温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックのモース硬度は通常 9 を超え、耐摩耗性と耐傷性に優れています。融点が 2700℃を超える極度の高温でも物理的および化学的特性を安定に保つのに十分であり、良好な状態を維持できます。高温での機械的強度と寸法安定性。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイトHRDNESS(モーススケール) : 9最高使用温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックのモース硬度は通常 9 以上で、耐摩耗性と耐傷性に優れています。極度の高温でも物理的および化学的特性を安定に保つのに十分であり、長期動作温度は 1200°C (短期 1400°C) に達し、溶融金属、ガラス、高温ガスのある環境に適しています。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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Si3N4窒化ケイ素セラミックは、ダークグレーから黒色で、非常に滑らかな反射面に研磨できるため、印象的な外観の部品が得られます。これらの要求の厳しい高信頼性用途向けに開発された非常に高品質なボディは、現在入手可能であり、多くの機械的、熱的、および摩耗用途に使用できます。さらに、Si3N4窒化ケイ素は電気絶縁体であり、非鉄合金によって濡れません。窒化ケイ素セラミックは比較的高価な材料ですが、長寿命と非常に信頼性の高い低メンテナンス運用により、通常使用される材料よりも優れた性能を発揮する用途において、その費用対効果は優れています。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックは、優れた耐高温性、耐腐食性、および機械的特性を有する窒化ケイ素（Si3N4）材料の一種です。高温特性に優れ、1200℃でも高い強度を維持し、1900℃で初めて分解します。さらに、耐薬品性にも優れ、ほぼすべての無機酸（フッ化水素酸を除く）と30%未満の苛性ソーダ溶液に耐えることができます。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミック軸受は、1400℃までの高温でも安定した機械的特性を維持できます。従来のセラミックと比較して、窒化ケイ素セラミックは強度と靭性が高く、より大きな衝撃と荷重に耐えることができます。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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テクニカルセラミックス 自動車産業のプロジェクション溶接や抵抗溶接に使用される溶接ガイドピンの製造に使用されます。セラミックピンは電気絶縁性があり、耐熱衝撃性に優れています。また、1,200 度まで使用できます。そのため、耐用年数が大幅に長くなり、経済効率も高くなります。材料 : 窒化ケイ素密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度(モース硬度) : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックピストンは、かさ密度が高く、熱衝撃耐性が高く、硬度が高く、高温耐性がある一種の高性能材料です。これらの特性により、窒化ケイ素セラミックピストンは極限環境でも優れた性能を発揮し、さまざまな産業分野で広く使用されています。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイトHRDNESS(モーススケール) : 9最高使用温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックは、優れた耐高温性、耐腐食性、および機械的特性を有する窒化ケイ素（Si3N4）材料の一種です。高温特性に優れ、1200℃でも高い強度を維持し、1900℃で初めて分解します。さらに、耐薬品性にも優れ、ほぼすべての無機酸（フッ化水素酸を除く）と30%未満の苛性ソーダ溶液に耐えることができます。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックリングは、通常、ホットプレス焼結プロセスによって製造されます。高温高圧条件下で窒化ケイ素粉末を焼結するこのプロセスにより、材料の密度と機械的特性が大幅に向上します。ホットプレス焼結プロセスを最適化することで、窒化ケイ素セラミックリングの全体的なパフォーマンスをさらに向上させることができ、厳しい産業ニーズにより適したものになります。材料 : 窒化ケイ素密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度(モース硬度) : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックボルトは、優れた耐高温性、耐腐食性、機械的特性を持つ窒化ケイ素（Si3N4）材料で作られたボルトの一種です。 窒化ケイ素セラミックボルトは高温で優れた性能を発揮し、1200°Cで高い強度を維持し、1900°Cでのみ分解します。 さらに、耐薬品性も優れており、ほぼすべての無機酸（フッ化水素酸を除く）と30％未満の苛性ソーダ溶液に耐えることができます。材料 : 窒化ケイ素密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度(モース硬度) : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミック構造は、ケイ素と窒素元素からなるセラミック材料の一種で、化学式Si3N4で、独特の結晶構造と優れた物理的・化学的特性を有しています。その基本構造単位は四面体[SiN4]で、ケイ素原子は四面体の中心に位置し、4つの窒素原子に囲まれています。四面体3つにつき1つの原子という形状で、三次元空間に連続的で強固なネットワークを形成しています。材料 : Si3N4密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度（モース硬度） : 9最高動作温度 : 1650
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窒化ケイ素セラミックスのモース硬度は通常9を超えており、耐摩耗性と耐傷性に優れており、極度の高温でも物理的および化学的特性を安定させるのに十分であり、融点は2700℃を超え、高温でも良好な機械的強度と寸法安定性を維持できます。材料 : 窒化ケイ素密度 : 2.8色 : ブラック / ブルー / ホワイト硬度(モース硬度) : 9最高動作温度 : 1650
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